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2025-04-27廠商性質
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詳細介紹
主要特性
1、通過高效低壓直流磁控頭進行冷態精細的噴鍍過程,避免樣品表面受損。
2、操作容易快捷,控制的參數包括放氣以及氬氣換氣控制。
3、數字化的噴鍍電流控制不受樣品室內氣壓影響,可得到一致的鍍膜速率和最佳的鍍膜效果。
4、可使用多種金屬靶材:Au,Au/Pd,,Pt,,Pt/Pd(Au靶為標配),靶材更換快速方便。
技術參數
濺射系統 | |
靶材 | Au靶為標配,可選Pt,直徑57mm x 0.1mm 厚 |
標準樣品臺 | 可以裝載12個SEM樣品座,高度可調范圍為60mm |
旋轉傾斜樣品臺(選配) | 旋轉速度:0~60rpm連續可調,傾斜角度:-90°~ 90°連續可調; 不銹鋼腔體:直徑120mm X高75mm; 觀察窗:直徑120mm X高45mm; 標配旋轉臺直徑40mm,可放4個標準樣品臺,其它規格可訂 做;具有雙重鎖緊裝置,可確保樣品在旋轉傾斜時不會松動脫 落。 |
濺射電流 | 微處理器控制,安全互鎖,可調,電流5~30mA,程序化數字控制 |
計量表 | 真空: Atm-1*10-3mbar,電流:0~99mA |
控制方法 | 帶有“開始"“暫停"按鈕的微處理控制器(1-999s),自動抽氣、濺 射、關機后自動放氣。 |
真空系統 | |
抽氣速率 | 133L/MIN |
極限真空 | 10-4 mbar級 |
噪音 | 56dB |
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